반응성 이온 식각(RIE)
Reactive Ion Etching
Reactive Ion Etching (RIE)반응성 이온 식각RIE
에서 만들어진 방향성 이온의 물리적 작용과 라디칼의 화학반응을 결합해 높은 과 실용적인 를 얻는 방식.
플라즈마
전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.
용어 상세설명
RIE는 '물리적 + 화학적' 두 메커니즘이 결합된다는 설명이 면접에서 핵심이다.
예시
이온이 bottom 표면 접합을 약화시키고 라디칼이 반응해 휘발성 부산물로 제거하면서 아래 방향 을 강화한다. 관련 용어: / / /
플라즈마
전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.
용어 상세구분
RIE는 의 한 방식이며 모든 공정이 RIE인 것은 아니다.
플라즈마
전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.
용어 상세