용어검색/반도체주입량Implant dose이온 주입량팩별 설명반도체 공정 L1반도체 장비 L1반도체 소재 L1반도체 공정 L2반도체 장비 L2주입량은 단위 면적당 주입하는 이온의 수이다.정의 복사관련 학습 ↓설명보통 ions/cm² 같은 단위를 사용한다. 원자 수의 총량과 관련되며 깊이에 따른 부피 농도 분포와는 다른 지표이다.예시면적당 주입량이 같아도 분포가 얕고 좁은 경우와 깊고 넓은 경우의 최고 농도는 다를 수 있다. cm²당 값과 cm³당 농도를 같은 값으로 비교하지 않는다.구분주입량은 얼마나 넣는가를 나타내며 깊이 분포는 별도로 확인한다.함께 배우는 용어결정방향↗결정방향은 결정의 원자 배열을 기준으로 특정 면이나 축이 향하는 방향이다.연마 웨이퍼↗연마 웨이퍼는 절단한 기판의 표면 손상을 줄이고 평탄하고 매끄러운 면을 갖도록 가공한 웨이퍼이다.MOSFET↗MOSFET은 게이트 전압으로 반도체의 채널 전류를 조절하는 전계효과 트랜지스터이다.이전 용어← 이온주입다음 용어주입 에너지 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개