평탄화
Surface Planarization
Planarization
표면의 높이 차이를 줄여 전체 또는 국부 표면을 더 평평하게 만드는 것.
설명
평탄화가 부족하면 다음 리소그래피 층의 포커스, 막 , 칩 내부 배선 패터닝이 어려워질 수 있다.
예시
로 구리와 절연막의 높이 차이를 줄여 다음 금속 층을 만들기 위한 평탄면을 확보한다. 관련 용어: 화학기계적 평탄화
구분
평탄화는 목표 결과이고 는 그 결과를 얻는 대표 공정 방법이다.
Surface Planarization
Planarization
표면의 높이 차이를 줄여 전체 또는 국부 표면을 더 평평하게 만드는 것.
평탄화가 부족하면 다음 리소그래피 층의 포커스, 막 , 칩 내부 배선 패터닝이 어려워질 수 있다.
로 구리와 절연막의 높이 차이를 줄여 다음 금속 층을 만들기 위한 평탄면을 확보한다. 관련 용어: 화학기계적 평탄화
평탄화는 목표 결과이고 는 그 결과를 얻는 대표 공정 방법이다.