용어검색/반도체챔버Chamber챔버는 설비 내부에서 실제 공정이 수행되는 처리 공간이나 모듈을 뜻한다.정의 복사관련 학습 ↓설명한 설비에 여러 챔버가 있으면 각 챔버의 상태·자격·이력을 따로 봐야 할 수 있다.예시EQ-01의 C1은 사용 가능하고 C2는 정비 중일 수 있다. 설비 전체 상태 하나로 두 경로를 동일하게 해석하지 않는다.구분장비 ID와 실제 처리 챔버 ID를 구분한다.함께 배우는 용어lot↗lot은 정해진 생산·추적 규칙에 따라 함께 관리하는 제조 대상의 묶음이다.recipe↗recipe는 설비에서 작업을 수행할 때 적용하는 처리 순서와 설정 조건을 묶은 실행 기준이다.설비 상태↗설비 상태는 장비가 생산·대기·정비 등 어떤 운영 상태에 있는지 나타내는 정보다.이전 용어← PM다음 용어설비군 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개