용어검색/반도체공통 원인 변동Common-cause variation팩별 설명반도체 수율·불량 L1Fab 자동화·MES L1반도체 공정 L2공통 원인 변동은 현재의 공정시스템에 상시 존재하는 여러 요인이 만드는 일상적 변동이다.정의 복사관련 학습 ↓설명안정 상태에서도 값은 완전히 같지 않다. 매번 작은 차이에 조건을 바꾸면 오히려 산포가 커질 수 있다.예시안정된 두께가 목표 주변에서 오르내릴 때 매 측정값마다 레시피를 보정하면 불필요한 진동을 만들 수 있다.구분안정된 자연 변동은 시스템 개선으로 줄이는 대상이다.함께 배우는 용어조립 수율↗조립 수율은 조립 공정에 투입한 대상 중 정해진 조립 완료 기준을 만족한 대상의 비율이다.최종 시험 수율↗최종 시험 수율은 패키지 등 최종 시험 대상 중 선언한 전기 시험 기준에 합격한 비율이다.누적 수율↗누적 수율은 연속된 공정 경계를 모두 지난 합격 수를 최초 투입 수로 나눈 비율이다.이전 용어← 통계적 공정관리다음 용어특별 원인 변동 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개