설명
를 높여 해상도를 개선하면 DOF가 줄어드는 상충 관계가 생길 수 있어 평탄도와 초점 제어가 중요해진다.
광학계가 빛을 모으는 능력을 나타내는 값. 리소그래피에서는 NA가 클수록 같은 조건에서 더 작은 패턴을 구분하는 데 유리하다.
용어 상세 ↗여러 개의 동일한 집적회로를 한꺼번에 제조하기 위한 얇고 둥근 반도체 기판.
용어 상세 ↗예시
표면 높이가 조금 달라도 DOF 안에 있으면 품질을 허용 수준으로 유지할 수 있다.
관련 용어: / /
여러 개의 동일한 집적회로를 한꺼번에 제조하기 위한 얇고 둥근 반도체 기판.
용어 상세 ↗회로 설계가 웨이퍼 위에 선·공간·구조 형태로 구현된 미세 형상.
용어 상세 ↗레티클의 패턴 이미지가 웨이퍼의 포토레지스트 면에 가장 선명하게 맺히도록 초점 위치를 맞춘 상태.
용어 상세 ↗광학계가 빛을 모으는 능력을 나타내는 값. 리소그래피에서는 NA가 클수록 같은 조건에서 더 작은 패턴을 구분하는 데 유리하다.
용어 상세 ↗제품이 요구 성능·품질을 만족할 수 있는 공정 조건의 허용 범위 또는 안정적으로 사용할 수 있는 조건 영역.
용어 상세 ↗구분
포커스는 현재 초점 위치이고 DOF는 허용 가능한 초점 오차 범위다.