열산화
Thermal oxidation
열산화는 가열한 실리콘을 산화성 분위기와 반응시켜 실리콘 산화막을 성장시키는 공정이다.
설명
산화에 쓰이는 실리콘이 기판에서 공급되므로 기판의 일부가 산화막으로 바뀐다. 외부 원료를 표면에 쌓는 증착과는 막이 생기는 방식이 다르다.
예시
실리콘 위에 산화막을 증착할 수도 있지만 그 경우 막의 형성과 계면 상태를 열산화와 같다고 볼 수 없다. 재료 이름이 같아도 형성 방법과 품질은 구분한다.
구분
열산화에서는 성장한 막과 소비된 실리콘을 함께 생각한다.