물리기상증착
Physical Vapor Deposition
PVD
타깃 재료를 스퍼터링 등 물리적 방법으로 방출시켜 에 을 형성하는 방식.
설명
금속 막 형성에 널리 쓰이며 와 달리 가스 화학적 반응 자체가 핵심 메커니즘은 아니다.
예시
이온이 금속 타깃을 때려 방출된 원자가 에 쌓여 금속 막을 만든다. 관련 용어: / 타깃
플라즈마
전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.
용어 상세구분
PVD는 물리적 재료 이송이 핵심이고 는 화학적 반응으로 막을 만든다.