ALD
Atomic Layer Deposition
원자층 증착
ALD는 표면에서 스스로 포화되는 반응을 차례로 반복하여 을 성장시키는 원자층증착이다.
설명
를 순차 공급하고 반응 사이에 남은 기체를 제거한다. 표면이 충분히 반응하면 해당 단계의 공급을 더 늘려도 성장량 증가가 제한되는 성질을 이용한다.
예시
이름과 달리 한 사이클마다 언제나 정확히 한 원자층이 완성되는 것은 아니다. 재료·표면·반응 조건에 따라 사이클당 실제 성장량이 달라진다.
구분
ALD의 본질은 이름의 원자 수가 아니라 자기제한 표면 반응이다.