마스크와 레티클
Mask and reticle
마스크와 레티클은 에 옮길 패턴 정보를 담은 광학용 원판을 가리키는 용어이다.
설명
축소 투영 에서는 레티클 패턴을 광학계로 줄여 전달한다. 빛을 통과시키는 방식과 반사시키는 방식의 원판이 있으며 노광 기술에 맞춰 구조가 달라진다.
예시
원판의 결함은 같은 위치에 반복된 결함을 만들 수 있다. 다만 이 보인다는 이유만으로 원판 결함으로 확정하지 않고 다른 반복 원인도 구분한다.
구분
패턴 원본의 품질과 위 결과의 반복성을 연결해 본다.