EUV 노광
Extreme ultraviolet lithography
EUV
EUV 은 약 13.5 nm 파장의 극자외선을 사용하는 노광 방식이다.
설명
이 빛은 많은 물질에 잘 흡수되므로 반사형 광학계와 진공 환경을 이용한다. 짧은 파장은 미세 패턴에 유리하지만 감광 재료의 반응 변동과 결함 중요하다.
예시
EUV를 쓴다고 모든 층의 공정이 하나로 단순해지거나 정렬 문제가 사라지는 것은 아니다. 패턴과 생산 조건에 맞춰 적용 범위를 정한다.
구분
짧은 파장의 이점과 그 빛을 전달·기록하는 고유한 조건을 함께 이해한다.