DUV 노광
Deep ultraviolet lithography
DUV
DUV 은 심자외선을 이용해 에 패턴을 기록하는 노광 방식이다.
노광은 감광막에 빛을 조사해 원하는 위치에 화학적 변화를 기록하는 과정이다.
용어 상세 ↗포토레지스트는 빛에 반응해 현상액에 대한 용해성이 달라지는 감광 재료이다.
용어 상세 ↗설명
대표적으로 KrF 광원의 248 nm와 ArF 광원의 193 nm 파장이 사용된다. 조명·광학계·액침· 등과 결합해 서로 다른 요구의 패턴을 형성한다.
다중 패터닝은 한 번의 패턴 형성으로 어려운 밀도나 배치를 여러 단계로 나누어 만드는 방법이다.
용어 상세 ↗예시
파장 값은 광원의 특성이지 그와 같은 크기의 선만 만들 수 있다는 뜻은 아니다. 실제 형성 치수에는 광학계와 공정 조건이 함께 관여한다.
구분
광원 파장과 에 형성되는 패턴 치수를 같은 값으로 읽지 않는다.