식각
Etching
식각은 화학반응이나 물리적 작용으로 재료를 제거해 원하는 형상과 노출 영역을 만드는 공정이다.
설명
마스크로 보호한 부분과 노출된 부분의 차이를 이용한다. 목표층을 제거하면서 아래층·마스크·측벽에 생기는 변화도 함께 제한해야 한다.
예시
구멍은 깊이만 맞아도 되는 구조가 아니다. 바닥 접점이 열리고 이웃 구조를 침범하지 않으며 후속 금속이 채워질 형태여야 한다.
구분
식각 목표는 없어질 막과 남을 구조를 한 쌍으로 정의한다.