설명
소량의 원자 변화도 반도체의 전류 흐름을 크게 바꿀 수 있다. 단순히 오염을 추가하는 것이 아니라 종류·위치·양이 설계된 재료 조절이다.
예시
기판 성장 중 도핑, 중 도핑, 완성된 표면에 하는 방법은 적용 시점과 공간 제어 방식이 다르다.
에피택시는 기판의 결정 배열을 따라 결정성 박막을 성장시키는 기술이다.
용어 상세 ↗이온주입은 이온화한 원자를 가속해 반도체 안에 넣는 도핑 방법이다.
용어 상세 ↗구분
도핑의 목적을 먼저 정하고 필요한 위치와 분포에 맞는 방법을 선택한다.