이온주입
Ion implantation
이온 주입
이온주입은 이온화한 원자를 가속해 반도체 안에 넣는 방법이다.
설명
과 에너지를 조절해 넣는 원자의 면적당 양과 깊이 분포를 제어한다. 마스크를 이용하면 특정 영역을 선택할 수 있지만 결정 격자에 손상을 남길 수 있다.
예시
원자를 넣었다고 모두 전기적으로 유효하게 작동하는 것은 아니다. 이후 열처리에서 손상 회복과 상태를 확인해야 한다.
구분
이온주입의 투입 결과와 후 전기적 결과를 구분한다.