주입 마스크
Implant mask
주입 마스크는 원자가 들어가면 안 되는 영역을 가려 선택적으로 도핑하기 위한 층이다.
설명
재료와 두께가 해당 이온의 침투를 충분히 막아야 한다. 패턴의 옆면과 개구부 모양은 경계 부근에 실제로 들어가는 양에도 영향을 줄 수 있다.
예시
빛을 가리는 능력과 가속된 이온을 막는 능력은 같지 않다. 포토 패턴이 잘 나왔더라도 주입 조건에 맞는 차폐 능력이 필요한 이유이다.
구분
주입 마스크는 위치 선택과 이온 차폐를 동시에 수행한다.