주입 손상
Implant damage
주입 손상은 가속 이온의 충돌로 원자가 원래 격자 자리에서 벗어나는 등 결정 구조가 변한 상태이다.
설명
원하는 도펀트와 함께 결함이 만들어질 수 있고 조건에 따라 일부가 비정질화되기도 한다. 손상은 전기적 와 누설·이동성 등에 영향을 줄 수 있다.
예시
열처리로 손상을 회복하려 해도 도펀트 분포가 동시에 변할 수 있다. 주입 공정과 후속 열처리를 한 묶음으로 확인해야 한다.
구분
원자를 넣는 정확도와 원래 결정의 품질을 회복하는 문제를 함께 다룬다.