설명
수율은 팹 과 원가에 직접 연결되며 , 공정 안정성, 장비 정확도, 관리의 영향을 받는다.
투입한 시간·장비·인력·자원 대비 얼마나 많은 유효 생산 출력을 얻는지를 나타내는 효율 개념.
용어 상세 ↗패턴·막·전기특성 등에서 정상 기대상태와 달라 제품 성능이나 수율에 악영향을 줄 수 있는 이상.
용어 상세 ↗공기 중 입자와 오염원을 관리해 정해진 청정도를 유지하는 제조 환경. 반도체 팹에서는 미세 오염이 패턴과 소자에 영향을 줄 수 있어 핵심 생산 공간으로 관리한다.
용어 상세 ↗예시
한 에서 정상 칩 수가 늘고 불량 칩 수가 줄면 수율이 개선된다.
관련 용어: / / /
여러 개의 동일한 집적회로를 한꺼번에 제조하기 위한 얇고 둥근 반도체 기판.
용어 상세 ↗패턴·막·전기특성 등에서 정상 기대상태와 달라 제품 성능이나 수율에 악영향을 줄 수 있는 이상.
용어 상세 ↗검사 면적이나 웨이퍼 면적에 대해 검출된 결함 수를 정규화해 나타낸 밀도 지표.
용어 상세 ↗일정 시간 동안 공정·장비·공장이 처리하거나 완료할 수 있는 웨이퍼, 웨이퍼 로트, 단위의 수.
용어 상세 ↗웨이퍼 제조가 끝난 뒤 각 다이의 전기적 동작과 특성을 검사해 정상 다이와 불량 다이를 선별하고, 가능한 경우 다이 리페어까지 수행하는 웨이퍼-수준 테스트 공정.
용어 상세 ↗구분
수율은 양품 비율이고 은 단위시간당 처리량이므로 서로 다른 생산지표다.
일정 시간 동안 공정·장비·공장이 처리하거나 완료할 수 있는 웨이퍼, 웨이퍼 로트, 단위의 수.
용어 상세 ↗