용어검색/반도체측정 편향Measurement bias팩별 설명반도체 수율·불량 L1반도체 테스트 L1반도체 계측·검사 L1반도체 공정 L2반도체 장비 L2반도체 수율·불량 L2반도체 테스트 L2반도체 클린룸·오염관리 L2Fab 자동화·MES L2측정 편향은 반복 측정의 평균과 기준값 사이의 체계적인 차이다.정의 복사관련 학습 ↓설명영점·증폭 비율·연결 경로·환경 영향 등이 원인일 수 있다. 한 수준에서 보정한 값이 전체 범위에 적용되는지는 별도 확인한다.예시가상 기준 1.000 V에 평균 1.010 V면 편향은 +10 mV다. 각 측정의 흔들림과 다른 성분이다.구분평균의 치우침과 개별 값의 퍼짐을 분리한다.함께 배우는 용어DUT↗DUT는 현재 시험 대상으로 연결한 소자나 칩, 패키지 등을 뜻한다.권장 동작 조건↗권장 동작 조건은 제품이 의도한 기능을 수행하도록 제조사가 정한 사용 조건 범위다.핸들러↗핸들러는 패키지 제품을 시험 위치로 옮기고 접촉시킨 뒤 결과에 따라 분류하는 장비다.이전 용어← 측정 정확도다음 용어반복성 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개