14,652개 용어
Contamination
웨이퍼·장비·공정 환경에 원하지 않는 입자, 화학물질, 금속 성분 등이 섞이거나 남아 공정 결과를 해칠 수 있는 상태.
Electrostatic Discharge
전위차 때문에 축적된 정전하가 짧은 순간에 이동하는 현상. 반도체 소자나 레티클 같은 민감한 물체에 손상을 줄 수 있다.
Ultrapure Water
반도체 세정·린스에 사용하도록 이온·유기물·입자 등 불순물을 매우 낮게 관리한 고순도 물.
Clean Dry Air
수분과 오염을 낮게 관리한 압축 공기 계열 팹 유틸리티로, 반도체 설비에서 건조·구동·세정 보조 등 다양한 용도로 사용될 수 있다.
Vacuum
대기압보다 낮은 압력 상태. 증착·식각·이온주입 등 많은 반도체 장비에서 공정 환경을 만들거나 물질 이동을 제어하는 데 사용된다.
Fab Utility
공정장비가 동작하도록 전력, 물, 가스, 진공, 배기·냉각 등을 공급하고 회수하는 팹 기반 설비 계통.
Front Opening Unified Pod
300 mm 웨이퍼를 오염으로부터 보호하면서 저장·운반하는 전면 개방형 캐리어. 자동물류 시스템과 장비 사이에서 웨이퍼 로트를 담는 대표 용기다.
Overhead Hoist Transport
팹 천장 레일을 따라 이동하며 FOUP 같은 웨이퍼 캐리어를 장비나 자동 캐리어 저장장치 사이로 자동 운반하는 물류 장치.
Automated Material Handling System
FOUP 등 웨이퍼 캐리어를 팹 내부에서 자동으로 저장·이동·인계하도록 구성한 물류 시스템 전체.
Tool Load Port
FOUP 같은 웨이퍼 캐리어를 공정/계측 장비에 올려놓고 장비와 캐리어를 인계하는 표준화된 물리적 접점.
Wafer Handling System
장비 전면 또는 장비 내부에서 웨이퍼를 FOUP/cassette의 slot과 공정 챔버·스테이지 사이로 이송·정렬하는 장비 수준 웨이퍼 취급 시스템.
Wafer Transfer Robot
웨이퍼 핸들러 또는 이송 모듈 안에서 웨이퍼를 정해진 위치 사이로 옮기는 정밀 웨이퍼 이송 로봇 부품. 진공·입자·정렬 조건을 고려해 장비 내부 이송에 사용된다.
Carrier / Equipment Buffer
바로 처리하지 않는 캐리어나 웨이퍼를 짧게 대기시키는 임시 저장 위치. 장비 내부 또는 물류 흐름 중간에 둘 수 있다.
AMHS Stocker
FOUP 같은 캐리어를 자동으로 보관하고 필요할 때 AMHS에 다시 인계하는 팹 물류 저장 설비.
Fab Dispatching
여러 WIP 웨이퍼 로트와 장비 중 무엇을 어느 장비에 언제 보내 처리할지 우선순위를 결정하는 생산 운영 로직.
Track-In / Track-Out
웨이퍼 로트 또는 웨이퍼가 특정 공정·장비 단계에 들어가 처리를 시작한 시점과, 처리를 마치고 단계에서 나온 시점을 기록하는 현장 운영 표현.
Work in Process
팹에 투입되어 아직 최종 공정을 마치지 않은 웨이퍼·웨이퍼 로트 등 공정 중인 재고.
Fab Cycle Time
웨이퍼나 웨이퍼 로트가 정해진 공정 흐름을 시작해 완료할 때까지 걸리는 전체 경과시간.
Throughput
일정 시간 동안 공정·장비·공장이 처리하거나 완료할 수 있는 웨이퍼, 웨이퍼 로트, 단위의 수.
Takt Time
가용 생산시간을 고객 수요량으로 나눈 값으로, 수요를 맞추기 위해 제품이 완성되어야 하는 목표 간격.
Production Capacity
주어진 장비·인력·시간·공정 조건에서 생산 시스템이 일정 기간 동안 처리할 수 있는 최대 또는 계획 가능한 생산량.
Equipment Utilization
관찰 기간 중 장비가 정의된 생산·운영 상태에 사용된 정도를 나타내는 비율 계열 지표.
Equipment Uptime
장비가 고장 상태가 아니며 정의된 가용 상태에 있는 시간을 나타내는 RAM 관련 시간 지표.
Equipment Downtime
장비가 고장, 정비 또는 기타 이유로 정상적인 생산 목적에 사용할 수 없는 시간.