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후방 추적

Backward trace

후방 추적은 특정 결과나 대상에서 출발해 이전 자재·공정·설비·조건을 거슬러 찾는 것이다.

설명

문제 를 만든 조건을 조사할 때 활용한다. 관련성이 확인되어도 바로 원인으로 확정되지는 않는다.

wafer

wafer는 반도체 소자 제조에 사용되는 얇은 기판으로, lot 내부에서도 개별 추적 대상이 될 수 있다.

불량 W07이 EQ-02의 C2를 거쳤다는 사실은 조사 단서이지 C2가 원인이라는 결론은 아니다.

챔버

챔버는 설비 내부에서 실제 공정이 수행되는 처리 공간이나 모듈을 뜻한다.

추적 결과와 원인 판정을 구분한다.

wafer는 반도체 소자 제조에 사용되는 얇은 기판으로, lot 내부에서도 개별 추적 대상이 될 수 있다.

챔버는 설비 내부에서 실제 공정이 수행되는 처리 공간이나 모듈을 뜻한다.

lot은 정해진 생산·추적 규칙에 따라 함께 관리하는 제조 대상의 묶음이다.