용어검색/반도체전방 추적Forward trace전방 추적은 특정 자재·자원·사건에서 출발해 영향을 받았을 가능성이 있는 후속 대상을 찾는 것이다.정의 복사관련 학습 ↓설명공통 사용 이력이나 적용 기간을 기준으로 조사·격리 후보를 정할 수 있다. 실제 영향은 추가 평가가 필요하다.예시특정 시간대의 설비 이상을 조사하면서 그 시간대에 처리된 lot 목록을 찾는 것이 예다.lotlot은 정해진 생산·추적 규칙에 따라 함께 관리하는 제조 대상의 묶음이다.용어 상세 ↗구분관련 대상 목록은 잠재 영향 범위이지 불량 확정 목록이 아니다.함께 배우는 용어lot↗lot은 정해진 생산·추적 규칙에 따라 함께 관리하는 제조 대상의 묶음이다.wafer↗wafer는 반도체 소자 제조에 사용되는 얇은 기판으로, lot 내부에서도 개별 추적 대상이 될 수 있다.route↗route는 제품이 거쳐야 할 공정 단계와 허용된 진행 순서를 정의한 제조 경로다.이전 용어← 후방 추적다음 용어추적 해상도 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개