설명
사람 자체가 큰 오염원이라는 점 때문에 복장 규정이 공정 품질과 연결된다는 맥락이 중요하다.
예시
작업자는 모자··장갑·방진복 등 정해진 복장을 착용한 뒤 생산라인에 들어간다.
관련 용어: / /
포토리소그래피에서 웨이퍼에 전사할 회로 패턴을 담아 노광에 사용하는 패턴 캐리어. DUV에서는 주로 투과형 레티클/마스크를, EUV에서는 반사형 다층 마스크를 사용한다.
용어 상세 ↗공기 중 입자와 오염원을 관리해 정해진 청정도를 유지하는 제조 환경. 반도체 팹에서는 미세 오염이 패턴과 소자에 영향을 줄 수 있어 핵심 생산 공간으로 관리한다.
용어 상세 ↗공기·액체·표면에 존재하는 미세 고형 또는 액상 입자. 미세공정에서는 작은 입자도 패턴을 막거나 결함을 만들 수 있다.
용어 상세 ↗전위차 때문에 축적된 정전하가 짧은 순간에 이동하는 현상. 반도체 소자나 레티클 같은 민감한 물체에 손상을 줄 수 있다.
용어 상세 ↗구분
garment는 발생을 줄이는 수단이지 청정도를 대신하는 장치가 아니다.
공기·액체·표면에 존재하는 미세 고형 또는 액상 입자. 미세공정에서는 작은 입자도 패턴을 막거나 결함을 만들 수 있다.
용어 상세 ↗공기 중 입자와 오염원을 관리해 정해진 청정도를 유지하는 제조 환경. 반도체 팹에서는 미세 오염이 패턴과 소자에 영향을 줄 수 있어 핵심 생산 공간으로 관리한다.
용어 상세 ↗