건식 세정

Dry Wafer Cleaning

Dry Clean

액체 bath 대신 가스, , UV-ozone 같은 비액상 방법을 이용해 표면 이나 유기 잔류물을 줄이는 세정 계열.

플라즈마

전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.

오염

웨이퍼·장비·공정 환경에 원하지 않는 입자, 화학물질, 금속 성분 등이 섞이거나 남아 공정 결과를 해칠 수 있는 상태.

설명

현업에서는 목적과 장비에 따라 건식 세정, 세정, 건식 strip 등 명칭이 달라질 수 있으므로 상위 개념으로 이해한다.

플라즈마

전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.

액체 사용을 줄여야 하거나 특정 유기 잔류물을 제거할 때 가스/ 계열 세정을 적용할 수 있다. 관련 용어:

플라즈마

전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.

웨이퍼 세정

화학적·기체·물리적 방법 등을 이용해 웨이퍼 표면의 입자, 금속, 유기물, 자연산화막 같은 불순물을 제거하는 공정.

건식 세정은 하나의 고정 이름이 아니라 비액상 세정 방식의 넓은 표현이다.

공정 레시피

장비가 재료를 처리할 때 따라야 할 공정 단계, 조건, 파라미터의 정의된 집합.

전자, 양이온, 라디칼 등이 존재하는 이온화된 가스 상태로, 건식 식각에서 화학적 반응과 directional 이온 bombardment를 만들어내는 핵심 매개체.

웨이퍼·장비·공정 환경에 원하지 않는 입자, 화학물질, 금속 성분 등이 섞이거나 남아 공정 결과를 해칠 수 있는 상태.

화학적·기체·물리적 방법 등을 이용해 웨이퍼 표면의 입자, 금속, 유기물, 자연산화막 같은 불순물을 제거하는 공정.