자연산화막
Native oxide
자연 산화막
자연산화막은 실리콘 등이 주변의 산소·수분과 반응하여 의도하지 않아도 표면에 형성되는 얇은 산화층이다.
설명
매우 얇아도 금속 접촉이나 결정 성장의 시작에 영향을 줄 수 있다. 반대로 어떤 작업에서는 산화된 표면이 필요하므로 항상 없애야 할 오염으로 취급하지 않는다.
예시
산화막 제거 후 금속을 연결할 계획이라면 보관 중 재산화 여부가 중요하다. 제거 직후의 상태와 실제 투입 시점의 상태가 같다고 가정하지 않는다.
구분
자연산화막의 필요 여부는 다음 공정의 계면 요구로 결정한다.