LPCVD
Low-Pressure Chemical Vapor Deposition
저압 CVD
LPCVD는 낮은 압력에서 수행하는 방식이다.
설명
낮은 압력은 기체의 수송과 기상 반응을 조절하는 데 활용된다. 여러 를 함께 처리하는 구성이 가능하지만 투입 수량과 위치별 온도·원료 공급을 관리해야 한다.
예시
치밀한 막 형성에 쓰이는 조건 중에는 높은 온도가 필요한 것도 있다. 이미 열에 민감한 재료가 들어간 구조에는 같은 조건을 그대로 적용할 수 없다.
구분
LPCVD의 적용 여부는 막 품질과 전체 을 함께 보고 판단한다.