PECVD
Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
플라즈마 강화 CVD
PECVD는 의 에너지로 반응을 돕는 방식이다.
플라즈마는 기체 일부가 이온과 전자로 나뉘어 전하를 가진 입자와 중성 입자가 함께 존재하는 상태이다.
용어 상세 ↗CVD는 기체 상태의 원료가 반응하거나 분해되어 기판 위에 고체 박막을 형성하는 화학기상증착이다.
용어 상세 ↗설명
는 기체의 일부가 전자·이온과 반응성 입자로 구성된 상태이다. 기체를 해 열만 쓰는 경우보다 낮은 기판 온도에서 막을 형성할 수 있는 조합이 있다.
플라즈마는 기체 일부가 이온과 전자로 나뉘어 전하를 가진 입자와 중성 입자가 함께 존재하는 상태이다.
용어 상세 ↗도펀트 활성화는 넣은 도펀트가 전하 운반자를 제공할 수 있는 전기적으로 유효한 상태가 되는 과정이다.
용어 상세 ↗예시
낮은 온도가 유리해도 막의 수소 함량·밀도·응력과 손상을 확인해야 한다. 같은 산화막이라도 다른 증착 방식의 막과 모든 성질이 같지는 않다.
플라즈마는 기체 일부가 이온과 전자로 나뉘어 전하를 가진 입자와 중성 입자가 함께 존재하는 상태이다.
용어 상세 ↗구분
PECVD의 낮은 온도 이점은 실제 막 특성과 함께 확인한다.