원자층 증착
Atomic layer deposition
ALD
원자층 증착은 서로 분리한 표면 반응을 반복하여 얇은 막을 성장시키는 증착 방법입니다.
설명
약어는 ALD입니다. 대표적인 방식은 와 을 번갈아 공급하고 사이에 제거 단계를 둡니다. 한 번에 정확히 원자 한 층이 항상 자란다는 뜻은 아닙니다.
예시
실제 은 재료·표면·반응 조건에 따라 달라질 수 있습니다.
구분
명칭의 ‘원자층’보다 표면 반응의 자기제한성을 중심으로 이해합니다.
Atomic layer deposition
ALD
원자층 증착은 서로 분리한 표면 반응을 반복하여 얇은 막을 성장시키는 증착 방법입니다.
약어는 ALD입니다. 대표적인 방식은 와 을 번갈아 공급하고 사이에 제거 단계를 둡니다. 한 번에 정확히 원자 한 층이 항상 자란다는 뜻은 아닙니다.
실제 은 재료·표면·반응 조건에 따라 달라질 수 있습니다.
명칭의 ‘원자층’보다 표면 반응의 자기제한성을 중심으로 이해합니다.