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정렬 마크

Alignment mark

팩별 설명

정렬 마크는 노광 또는 계측 시 기판의 위치와 방향을 파악하기 위해 사용하는 기준 패턴이다.

설명

막 적층·변형·비대칭 식각이 신호를 바꿀 수 있다. 마크가 나타내는 위치와 실제 소자 패턴 위치 사이 차이가 생길 수도 있다.

정렬 잔차가 특정 막 조건에서 달라지면 마크 품질과 소자 영역의 일치성을 함께 확인한다.

마크 측정의 양호함이 소자 패턴 를 자동으로 보장하지 않는다.

오버레이

오버레이는 서로 다른 패턴 층이나 노광 단계 사이의 상대 위치 어긋남이다.

오버레이는 서로 다른 패턴 층이나 노광 단계 사이의 상대 위치 어긋남이다.

변동의 계층은 측정 반복·웨이퍼 내부·웨이퍼 사이·로트 사이에서 생기는 차이를 구분하는 관점이다.

공간적 서명은 측정값이나 결함이 웨이퍼·필드의 위치에 따라 보이는 반복적 분포 형태다.