습식 식각
Wet Etching
Wet Etch
액체 식각액의 화학반응으로 노출된 재료를 용해·제거하는 방식.
설명
습식 은 일반적으로 높은 와 처리 단순성이 장점이 될 수 있지만 미세 구조에서는 측면 식각 때문에 한계가 생길 수 있다.
예시
를 액체 식각액에 노출해 특정 이나 막을 선택적으로 제거한다. 관련 용어: /
구분
습식 은 액체 기반 재료 제거이고 은 제거가 주목적이다.
Wet Etching
Wet Etch
액체 식각액의 화학반응으로 노출된 재료를 용해·제거하는 방식.
습식 은 일반적으로 높은 와 처리 단순성이 장점이 될 수 있지만 미세 구조에서는 측면 식각 때문에 한계가 생길 수 있다.
를 액체 식각액에 노출해 특정 이나 막을 선택적으로 제거한다. 관련 용어: /
습식 은 액체 기반 재료 제거이고 은 제거가 주목적이다.