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건식 식각

Dry etching

팩별 설명

건식 식각은 액체 반응조 대신 기체· 등을 이용해 재료를 제거하는 방법입니다.

플라스마

플라스마는 기체에 에너지가 공급되어 전자·이온 등 하전 입자와 중성종이 함께 존재하는 상태입니다.

설명

모든 건식 식각이 를 사용하는 것은 아닙니다. 여기서는 반응성 기체와 플라스마가 함께 쓰이는 경우의 역할을 중심으로 봅니다.

플라스마

플라스마는 기체에 에너지가 공급되어 전자·이온 등 하전 입자와 중성종이 함께 존재하는 상태입니다.

기체라는 이유만으로 입자 충돌만 일어나거나 화학 반응이 없다고 생각하지 않습니다.

사용 매체와 실제 제거 원리를 나누어 읽습니다.

플라스마는 기체에 에너지가 공급되어 전자·이온 등 하전 입자와 중성종이 함께 존재하는 상태입니다.

열팽창계수는 온도가 변할 때 재료 길이 등이 상대적으로 얼마나 변하는지 나타내는 계수입니다.

단결정은 원자 배열의 규칙적인 방향이 큰 영역에 걸쳐 이어지는 결정입니다.