과식각
Overetch
오버에치
과식각은 위치별 두께·속도 차이로 남을 수 있는 목표층을 제거하기 위해 주 뒤 추가하는 식각 여유이다.
설명
덜 제거된 곳을 열어 주지만 먼저 열린 곳의 아래층과 마스크는 더 오래 노출된다. 부족한 과 과도한 손상 사이에서 허용 범위를 정해야 한다.
예시
시간을 늘리면 잔류막은 줄어도 접점 손상이나 측면 침식이 늘 수 있다. 잔류막이 없다는 한 지표만으로 과식각 조건을 선택하지 않는다.
구분
과식각 여유는 미제거 위험과 이미 열린 영역의 손상을 함께 관리한다.