공정 윈도우

레티클/마스크의 패턴 정보를 빛으로 포토레지스트에 선택적으로 전달해 레지스트의 화학적 상태를 바꾸는 단계.

반도체 패턴에서 성능과 공정 허용오차에 중요해 관리되는 선폭·간격 같은 핵심 치수.

패턴·막·전기특성 등에서 정상 기대상태와 달라 제품 성능이나 수율에 악영향을 줄 수 있는 이상.

온도, 압력, 유량 같은 제어 변수를 원하는 상태로 유지하기 위해 제어기에 주는 목표값.

현재 성능이나 공정값이 고장 한계, 규격 한계, 타이밍/전력 한계 등 위험 경계까지 얼마나 여유를 갖는지를 나타내는 엔지니어링 개념.