용어검색/반도체DRAM 커패시터DRAM capacitor팩별 설명반도체 공정 L1반도체 공정 L2DRAM 커패시터는 저장 전하를 이용하는 메모리 셀에서 전하를 보유하는 축전 구조다.정의 복사관련 학습 ↓설명단순 용량 관계 C∝kA/t에서 면적 확보·유전막 두께·유전율이 중요하다. 높은 구조는 면적에 유리하지만 피복·누설·기계적 안정성을 어렵게 한다.예시용량을 늘리기 위해 구조를 높일 때 내부 전극 연결과 유전막 균일도를 함께 확인한다.구분큰 용량과 낮은 누설·안정한 구조를 동시에 요구한다.함께 배우는 용어공정 통합↗공정 통합은 여러 단위공정의 순서·재료·형상을 조정하여 최종 소자와 배선의 요구특성을 함께 만족시키는 활동이다.공정 윈도우↗공정 윈도우는 정한 품질 조건을 동시에 만족하는 입력변수 조합의 범위다.열산화↗열산화는 높은 온도에서 산화제가 실리콘과 반응하여 산화막을 성장시키는 공정이다.이전 용어← 과잉 조절다음 용어수직 NAND 채널 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개