소스와 RF 바이어스
Plasma source and RF bias
RF 바이어스
소스 전력은 주로 플라즈마 생성을, RF 바이어스는 기판 쪽 의 이온 가속 조건을 조절하는 역할이다.
설명
분리 전원을 쓰는 구조에서도 두 기능은 완전히 독립적이지 않다. 바이어스가 전자 가열과 밀도에, 소스 변화가 와 이온 흐름에 영향을 줄 수 있다.
예시
소스만 높였으니 에너지는 그대로라고 단정하지 않는다. 장비 구조·압력·파형에 따라 결합 정도가 달라지므로 공정 결과와 전기 신호를 확인한다.
구분
독립 조절 손잡이가 있다고 물리적 이 사라지지는 않는다.