플라즈마 시스
Plasma sheath
시스
플라즈마 시스는 플라즈마와 표면 사이에서 전위가 크게 변하며 입자의 표면 도달을 조절하는 영역이다.
설명
전자는 이온보다 빨리 이동하므로 표면 부근에 전하 불균형이 생긴다. 일반적인 식각 조건에서는 양이온이 시스 전위차로 가속되지만 충돌·파형에 따라 에너지 분포가 달라진다.
예시
바이어스 전압 한 값이 모든 이온의 충돌 에너지를 뜻하지는 않는다. 압력이 높아 시스 내 충돌이 늘면 에너지와 입사각 분포가 변할 수 있다.
구분
이온의 표면 작용은 평균 전압뿐 아니라 시스 내 이동 조건으로 결정된다.