레티클

레티클과 웨이퍼를 정밀하게 이동·스캔하면서 좁은 노광 slit를 이용해 한 노광 영역을 노광하는 step-and-scan 리소그래피 시스템.

한 노광 영역을 노광한 뒤 웨이퍼 스테이지를 다음 위치로 옮겨 같은 레티클 패턴을 반복해서 노광하는 리소그래피 장비.

회로 설계가 웨이퍼 위에 선·공간·구조 형태로 구현된 미세 형상.

여러 개의 동일한 집적회로를 한꺼번에 제조하기 위한 얇고 둥근 반도체 기판.

회로 설계가 웨이퍼 위에 선·공간·구조 형태로 구현된 미세 형상.

여러 개의 동일한 집적회로를 한꺼번에 제조하기 위한 얇고 둥근 반도체 기판.

웨이퍼 위에 만들어진 개별 집적회로 단위. 웨이퍼를 웨이퍼 다이싱하면 각각의 다이로 분리된다.

포토리소그래피에서 웨이퍼에 전사할 회로 패턴을 담아 노광에 사용하는 패턴 캐리어. DUV에서는 주로 투과형 레티클/마스크를, EUV에서는 반사형 다층 마스크를 사용한다.

레티클과 웨이퍼를 정밀하게 이동·스캔하면서 좁은 노광 slit를 이용해 한 노광 영역을 노광하는 step-and-scan 리소그래피 시스템.

레티클/마스크의 패턴 정보를 빛으로 포토레지스트에 선택적으로 전달해 레지스트의 화학적 상태를 바꾸는 단계.

여러 개의 동일한 집적회로를 한꺼번에 제조하기 위한 얇고 둥근 반도체 기판.

웨이퍼 위의 다이·불량·측정 결과를 2차원 좌표로 표시한 지도 형태의 데이터.

회로 설계가 웨이퍼 위에 선·공간·구조 형태로 구현된 미세 형상.