선택비
Etch selectivity
식각 선택비
식각 선택비는 목표 재료의 을 비교 재료의 식각률로 나눈 값이다.
설명
같은 조건에서 목표층이 빨리 제거되고 마스크나 아래층이 천천히 제거되면 해당 조합의 선택비가 높다. 어떤 두 재료를 어느 순서로 비교했는지 반드시 명시한다.
예시
목표막이 분당 100 nm, 마스크가 분당 10 nm 줄면 목표막 대 마스크 선택비는 10이다. 목표막 200 nm를 제거할 때 이상적인 마스크 소모 예상은 20 nm이다.
구분
선택비는 남길 재료의 소모량을 예상하는 관계이며 재료 쌍을 생략하지 않는다.