ArF

심자외선(DUV) 파장의 빛을 사용하는 광학 리소그래피 기술 계열. 대표 광원으로 KrF 248 nm와 ArF 193 nm가 쓰인다.

레티클/마스크의 패턴 정보를 빛으로 포토레지스트에 선택적으로 전달해 레지스트의 화학적 상태를 바꾸는 단계.

빛의 한 주기에서 다음 주기까지의 공간적 길이. 리소그래피에서는 파장이 짧을수록 더 작은 패턴을 구분하는 데 유리하다.