설명
리소그래피 해상도 관계식에서는 파장이 짧아질수록 더 작은 치수를 구현하기 유리하다. 에서 로 발전한 이유를 이해하는 핵심 변수다.
심자외선(DUV) 파장의 빛을 사용하는 광학 리소그래피 기술 계열. 대표 광원으로 KrF 248 nm와 ArF 193 nm가 쓰인다.
용어 상세 ↗약 13.5 nm 파장의 극자외선(EUV)을 사용하는 고해상도 리소그래피 기술.
용어 상세 ↗예시
193 nm 보다 13.5 nm 가 훨씬 짧은 파장을 사용한다.
관련 용어: / 심자외선 노광 / 극자외선 노광
심자외선(DUV) 파장의 빛을 사용하는 광학 리소그래피 기술 계열. 대표 광원으로 KrF 248 nm와 ArF 193 nm가 쓰인다.
용어 상세 ↗약 13.5 nm 파장의 극자외선(EUV)을 사용하는 고해상도 리소그래피 기술.
용어 상세 ↗서로 가까운 미세 패턴을 구분해 원하는 형태로 웨이퍼에 인쇄할 수 있는 리소그래피 시스템의 능력.
용어 상세 ↗구분
파장은 빛의 특성이고 는 시스템이 구분해 인쇄할 수 있는 형상 요소 성능이다.
서로 가까운 미세 패턴을 구분해 원하는 형태로 웨이퍼에 인쇄할 수 있는 리소그래피 시스템의 능력.
용어 상세 ↗