용어검색/반도체에피택시 메모리 효과Epitaxial memory effect에피택시 메모리 효과는 이전 공정의 잔류 성분이나 챔버 상태가 다음 성장에 영향을 주는 현상이다.챔버 상태챔버 상태는 벽면·잔류 성분·소모품·열 상태 등 공정 반응에 영향을 주는 내부 환경의 조합이다.용어 상세 ↗정의 복사관련 학습 ↓설명벽에 남은 종·가스 경로·세정 이력에 따라 초기 조성이나 도핑이 달라질 수 있다. 같은 레시피라도 직전 처리 이력이 중요하다.예시특정 제품 뒤의 첫 웨이퍼만 다르면 처리 순서와 안정화 이력을 비교한다.구분레시피 이름뿐 아니라 챔버의 직전 상태를 추적한다.함께 배우는 용어챔버 상태↗챔버 상태는 벽면·잔류 성분·소모품·열 상태 등 공정 반응에 영향을 주는 내부 환경의 조합이다.표면 준비↗표면 준비는 후속 증착·접합·반응이 재현되도록 오염과 표면 화학상태를 조정하는 과정이다.금속 오염↗금속 오염은 의도하지 않은 금속 성분이 표면이나 재료 내부에 존재하는 상태다.이전 용어← 성장 중 도핑다음 용어챔버 상태 →반도체 기술지도전체 지도 ↗L0 큰 그림L1 분야 이해L2 깊은 탐구✦ BESTL0반도체 시작10무료학습 10개✦ BESTL1반도체 용어오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 공정오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 장비오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 패키징·HBM오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 수율·불량오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 테스트오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 계측·검사오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소재오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 소자오픈 30% · 27,300원학습 30개L1반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L2반도체 클린룸·오염관리오픈 30% · 27,300원학습 30개L1Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개L2Fab 자동화·MES오픈 30% · 27,300원학습 30개