ALD
Atomic Layer Deposition
원자층 증착
ALD는 서로 분리된 원료 노출과 자기제한 표면 반응을 반복하여 얇은 막을 성장시키는 원자층 증착이다.
설명
시간적으로 원료를 번갈아 공급하거나 공간적으로 분리된 반응 영역을 이용할 수 있다. 아래 학습은 주입과 를 반복하는 시간 분할 방식에 초점을 둔다.
예시
이름에 원자층이 들어가도 한 사이클마다 반드시 완전한 한 원자층이 쌓이는 것은 아니다. 재료·표면·조건에 따른 실제 성장량을 측정해야 한다.
구분
원자층 정밀 제어는 과 반복 가능한 조건에서 출발한다.