LPCVD
Low Pressure Chemical Vapor Deposition
저압 화학 기상 증착
LPCVD는 낮은 압력에서 수행하는 이다.
설명
압력·온도와 반응 조건을 통해 막질과 균일도를 관리하며 여러 를 배치로 처리하는 구성이 널리 사용된다. 모든 LPCVD가 동일한 온도나 배치 구조를 쓰지는 않는다.
예시
배치 내 위치에 따른 두께 차이는 온도와 반응물 공급·소모를 함께 검토한다. 장비 전체 평균만으로 각 위치의 결과를 대신하지 않는다.
구분
저압 조건의 목적과 배치 내부의 위치별 조건을 연결한다.