포토레지스트
Photoresist
PR감광막
포토레지스트는 빛에 반응해 현상액에 대한 용해성이 달라지는 감광 재료이다.
설명
으로 눈에 바로 보이지 않는 화학적 변화를 만든 뒤 에서 선택적으로 제거한다. 남은 막은 다음 이나 에서 위치를 구분하는 임시 보호층이 된다.
예시
감광막 패턴 자체가 곧 최종 금속선이나 실리콘 형상은 아니다. 원하는 재료로 패턴을 옮기고 필요가 끝난 감광막을 제거하는 후속 공정이 이어진다.
구분
포토레지스트는 빛의 정보를 가공 가능한 임시 패턴으로 바꾼다.