노광 후 베이크
Post-exposure bake
PEB
노광 후 베이크는 노광으로 생긴 화학 상태를 열처리로 진행시켜 현상 반응을 조절하는 단계다.
설명
화학증폭형 레지스트에서는 산 촉매 반응과 확산 등이 패턴에 영향을 준다. 온도·시간·대기 지연의 차이가 와 거칠기·프로파일을 바꿀 수 있다.
예시
노광 조건이 같은데 핫플레이트별로 가 다르면 실제 열전달과 시간 이력을 확인한다. 표시 온도만 같다고 웨이퍼 열이력까지 같지는 않다.
구분
트랙의 열제어가 노광 결과를 계속 바꿀 수 있다.