패턴 전사 편차
Pattern transfer bias
전사 편차
패턴 전사 편차는 이나 마스크의 치수와 후속 가공층의 치수 사이에 생기는 차이이다.
설명
중 옆 방향 제거, 보호막 형성, 마스크 소모 등으로 치수가 달라질 수 있다. 전사 전후를 같은 기준으로 측정해야 어느 단계에서 변화했는지 알 수 있다.
예시
후 선폭이 40 nm이고 후 같은 기준의 선폭이 36 nm라면 전사 과정에서 4 nm 줄었다. 이 값은 오차와 구분해 기록한다.
구분
최종 치수 문제를 과 중 어느 단계에서 생겼는지 나누어 본다.