RIE
Reactive Ion Etching
반응성 이온 식각
RIE는 반응성 의 화학 작용과 의 표면 작용을 함께 이용하는 반응성 이온 식각이다.
설명
은 반응을 돕고 은 표면 활성화와 방향성 제거에 기여할 수 있다. 구체적인 기여는 재료·가스·압력·전극 조건에 따라 달라진다.
예시
화학 반응만 강화하면 옆면 제거가 늘 수 있고 작용만 강화하면 손상이 커질 수 있다. 원하는 형상을 기준으로 두 작용의 균형을 본다.
구분
화학과 물리 작용을 구분하되 실제 공정에서는 함께 작동한다고 이해한다.