식각
Etching
식각은 재료를 화학적 반응이나 물리적 작용 등으로 제거하여 원하는 형상을 만드는 공정이다.
설명
마스크로 보호된 부분과 노출된 부분의 제거 차이를 이용한다. 습식과 건식 방식이 있으며 재료·형상· 요구에 따라 적합한 방식이 달라진다.
예시
같은 막을 제거하더라도 넓은 평면의 제거와 좁고 깊은 구멍 형성은 요구 조건이 다르다. 재료 이름만으로 식각 장비를 고르지 않는다.
구분
무엇을 제거하고 무엇을 남길지부터 정의한다.
Etching
식각은 재료를 화학적 반응이나 물리적 작용 등으로 제거하여 원하는 형상을 만드는 공정이다.
마스크로 보호된 부분과 노출된 부분의 제거 차이를 이용한다. 습식과 건식 방식이 있으며 재료·형상· 요구에 따라 적합한 방식이 달라진다.
같은 막을 제거하더라도 넓은 평면의 제거와 좁고 깊은 구멍 형성은 요구 조건이 다르다. 재료 이름만으로 식각 장비를 고르지 않는다.
무엇을 제거하고 무엇을 남길지부터 정의한다.