ARDE
Aspect Ratio Dependent Etching
종횡비 의존 식각
ARDE는 패턴의 에 따라 속도나 결과가 달라지는 현상이다.
설명
깊은 구조의 반응종 공급·이온 도달·생성물 배출 등이 달라져 같은 시간에도 깊이가 다르게 나올 수 있다. 구체적인 방향과 크기는 재료와 방식에 따라 확인한다.
예시
평판 이 안정적이어도 좁은 구멍의 바닥에 잔류막이 남을 수 있다. 모니터 기판 결과와 실제 패턴 결과를 동일하게 취급하지 않는다.
구분
조건의 적합성은 실제 폭과 깊이를 가진 패턴에서 확인한다.