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이온 주입

Ion implantation

팩별 설명

이온 주입은 가속한 이온을 고체에 넣어 불순물 분포나 재료 상태를 조절하는 공정이다.

설명

이온 종류·에너지··입사 방향과 기판 상태가 깊이 분포와 손상을 바꾼다. 원하는 도핑은 후속 열처리와 함께 완성된다.

주입량

주입량은 단위 면적에 주입한 이온의 수로, 보통 cm⁻² 단위를 사용한다.

같은 원소와 이라도 에너지가 다르면 농도 분포와 접합 깊이가 달라질 수 있다.

주입량

주입량은 단위 면적에 주입한 이온의 수로, 보통 cm⁻² 단위를 사용한다.

주입 조건과 활성화 조건을 분리해 기록한다.

주입량은 단위 면적에 주입한 이온의 수로, 보통 cm⁻² 단위를 사용한다.

표면 준비는 후속 증착·접합·반응이 재현되도록 오염과 표면 화학상태를 조정하는 과정이다.

파티클 오염은 표면에 부착한 미세 입자가 패턴이나 막 형성을 방해하는 상태다.